Kémiai gőzfázisú leválasztás (CVD)

A rétegek előállításának másik nagy csoportja a kémiai gőzfázisú leválasztás, mely során a réteg leválasztása a hordozóra heterogén kémiai reakcióval történik, magas hőmérsékleten (500 – 1000 °C).

A1.10.D21

A1.10.D22

[Ábra:  http://www.seas.ucla.edu/prosurf/MOCVD.htm]

A1.10.D23